Os scanners para litografia de semicondutores são baseados em poderosas fontes de radiação baseadas em laser. O desempenho do scanner e a escala dos padrões tecnológicos que podem ser alcançados neste estágio de produção dependem da qualidade e potência dos lasers. Algo novo nessa área foi preparado pela empresa japonesa Gigaphoton.
Produtos Gigaphoton Laser Variedade
Na sexta-feira, a Gigaphoton anunciou sua disponibilidade para fornecer aos clientes dois novos modelos de lasers excímeros ArF (193 nm) e KrF (248 nm). No primeiro caso, estamos falando do modelo GT66A para litografia de imersão (imerso em líquido) e no segundo – sobre o modelo G60K. Ambos os novos lasers prometem trazer a mais recente tecnologia para a impressão litográfica de semicondutores, necessária para a fabricação de circuitos integrados mais rápidos e densos. Incluindo as últimas tendências na forma de inteligência artificial, Internet das coisas e comunicações celulares de 5ª geração.
O novo laser de imersão GT66A ArF apresenta o mais recente módulo óptico para reduzir a coerência espacial e melhorar a uniformidade do feixe na superfície de projeção. O laser G60K KrF é – pela primeira vez em 15 anos – um modelo completamente redesenhado. Devido à nova fonte de alimentação a laser, sua energia é aumentada em 1,5 vezes. Isso significa que a velocidade de processamento de pastilhas de silício com scanners com lasers G60K pode ser significativamente aumentada.
Um cliente dos lasers ArF e KrF da Gigaphoton é a ASML, uma empresa holandesa. É verdade que o ASML usa lasers internos para scanners EUV. Para fazer isso, em 2012, ela comprou a empresa americana Cymer. Assim, as fontes de radiação EUV da Gigaphoton não se tornaram um produto em massa para a produção de equipamentos litográficos para a produção de chips. A ASML tornou-se o único fornecedor de scanners EUV, empurrando a japonesa Nikon e Canon para fora desse nicho competitivo superaquecido. Mas isso é outra história.
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