A ASML conseguiu enviar o primeiro scanner litográfico com alta abertura numérica para a Intel em dezembro do ano passado, mas mesmo assim se sabia que tal equipamento não seria usado na produção em série de chips com tecnologia Intel 18A. A própria ASML afirma que os scanners de geração High-NA começarão a ser usados pelos clientes na produção em massa de 2026–2027.
Fonte da imagem: ASML
Lembremos que a Intel usará o primeiro scanner de litografia com alta abertura numérica para experimentos em seu centro de pesquisa em Oregon em combinação com a tecnologia Intel 18A, mas tal equipamento será introduzido em produção apenas nas etapas subsequentes da litografia. Esta semana, conforme relata a Reuters, a empresa holandesa ASML convidou representantes da imprensa ao seu empreendimento para demonstrar amostras desses equipamentos e falar sobre as perspectivas de sua utilização.
Curiosamente, analistas e representantes da ASML divergem em suas idéias sobre o momento da implementação razoável de equipamentos High-NA no contexto da produção em massa de chips. Especialistas em semianálise, por exemplo, sugerem que o uso de tais scanners litográficos não se tornará economicamente viável antes de 2030. A administração da ASML rejeita tais argumentos, insistindo que a transição para uma nova geração de scanners proporcionará retornos económicos muito mais cedo e começará já em 2026 ou 2027.
A Samsung e a TSMC já estão demonstrando interesse em tais equipamentos ASML, mas a administração desta última deixou recentemente claro que a viabilidade econômica influenciará seriamente o momento da introdução da tecnologia High-NA na linha de montagem deste maior fabricante contratado de chips no mundo. Em segundo lugar, a TSMC não está preparada para transferir os processos técnicos dos clientes para novos equipamentos se isso não for conveniente para eles. Resumindo, parece que a TSMC ainda não está pronta para se apressar no uso de equipamentos de litografia de alta abertura numérica.
Representantes da ASML explicaram esta semana que os sistemas litográficos de alta geração que produz pesam 150 toneladas e, quando desmontados, ocupam 250 contêineres. Para deixar esse scanner pronto para operação, é necessário o trabalho de 250 engenheiros durante seis meses. Atualmente, a ASML tem entre 10 e 20 pedidos de clientes para o fornecimento desses scanners, e fabricantes de memória como Micron e SK hynix também estão demonstrando interesse neles. Até 2028, a ASML planeja produzir até 20 desses sistemas anualmente. Os fabricantes de chips que utilizam novos equipamentos podem reduzir as dimensões geométricas dos elementos semicondutores em 40%, aumentando a densidade dos transistores em até três vezes. Um desses sistemas custa cerca de US$ 380 milhões. Várias cópias desse equipamento serão enviadas aos clientes durante este ano.