O governo holandês protestou formalmente contra um projeto de lei proposto pelos EUA que endureceria as restrições ao fornecimento de equipamentos de litografia para a China, o que prejudicaria os interesses da empresa local ASML.
Fonte da imagem: ASML
“Considerando o impacto potencial da Lei Match nos Países Baixos, caso seja aprovada em sua forma atual, os Países Baixos comunicaram suas objeções, particularmente em relação aos aspectos extraterritoriais, tanto a membros do Congresso quanto ao governo dos EUA”, escreveu o Ministro do Comércio holandês, Sjoerd Sjoerdsma, em uma carta aos legisladores americanos publicada na terça-feira.
“O Gabinete se opõe ao efeito extraterritorial da proposta americana. Cada país é responsável por sua própria legislação de controle de exportações”, acrescentou o ministro.
Caso a Lei de Harmonização Multilateral de Controles de Tecnologia para Hardware (Match Act), apresentada ao Congresso americano por um grupo bipartidário de legisladores no mês passado, seja aprovada, a ASML ficará proibida de fornecer máquinas de litografia ultravioleta profunda de baixo custo para a China ou de prestar serviços a clientes existentes naquele país. Cabe ressaltar que, sob as atuais restrições de exportação dos EUA, a empresa já está proibida de fornecer equipamentos avançados de litografia ultravioleta extrema (EUV) para a China.
” Em uma carta entregue no mês passado durante a visita da família real holandesa aos EUA, o ministro observou que as medidas abrangentes previstas no projeto de lei poderiam ter um impacto significativo nas receitas das empresas de semicondutores, incluindo as holandesas, e enfraquecer sua posição no mercado.
A ASML estimou em janeiro que 20% de suas vendas neste ano seriam provenientes de [informação faltante].As exportações virão da China, representando uma queda de 33% em comparação com 2025. De acordo com cálculos baseados em dados alfandegários chineses, as remessas de equipamentos de litografia da Holanda para a China no primeiro trimestre de 2026 caíram 24,3% em relação ao ano anterior.