Os fabricantes de chips chineses têm de vez em quando de enfrentar novas restrições à recepção de equipamentos dos Estados Unidos, dos Países Baixos e do Japão, mas as sanções actuais até agora centram-se principalmente em soluções para processos tecnológicos avançados. A Nikon acredita que em tais condições será capaz de desenvolver ativamente os seus negócios na China.
A fabricante japonesa de sistemas ópticos também fornece equipamentos litográficos e, em 2007, chegou a criar um protótipo de scanner para trabalhar com a chamada radiação EUV. Tal iniciativa em escala de produção em série exigiria gastos de capital significativos e, portanto, a Nikon recusou-se a produzir equipamentos para trabalhar com litografia EUV, que permite a produção de chips utilizando tecnologias de 7 nm e mais finas.
A empresa decidiu utilizar os recursos liberados para produzir equipamentos para processos técnicos mais maduros e adaptá-los às necessidades de grupos específicos de clientes. Devido ao rápido desenvolvimento do mercado chinês de veículos elétricos, como explica DigiTimes, a Nikon espera ganhar um bom dinheiro fornecendo equipamentos para a produção de eletrônicos de potência para a China, incluindo chips produzidos com a tecnologia de processo de 28 nm.
Os clientes chineses da Nikon começarão a receber um sistema de gravação de wafer de carboneto de silício este ano, denominado NSR-2205iL1. A Nikon produziu equipamentos para trabalhar com carboneto de silício há 30 anos, mas devido à falta de demanda, fez uma longa pausa e agora, tendo como pano de fundo um renascimento do interesse por tais sistemas, desenvolveu e se preparou para lançamento um novo produto. Os fabricantes chineses de componentes automotivos compram voluntariamente equipamentos Nikon, mesmo que o alcance de suas capacidades seja limitado ao trabalho com a tecnologia de processo de 28 nm. Representantes do fabricante japonês estão convencidos de que nos próximos dez anos o mercado chinês de produtos semicondutores apresentará um crescimento explosivo.
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