Intel revela detalhes de quatro variantes da tecnologia de processo Intel 3 – +18% de desempenho por watt e mais

Nas páginas do blog corporativo da Intel esta semana, apareceu uma publicação com uma apresentação integrada que a divisão de manufatura da empresa preparou para o evento VLSI Symposium. Entre as informações muito específicas que interessam aos especialistas, eles falaram sobre os benefícios que as diferentes versões da tecnologia de processo Intel 3 trarão.

Fonte da imagem: Intel

Um relatório sobre este tema foi feito pelo vice-presidente de desenvolvimento de tecnologia da divisão de contratos da Intel, Walid Hafez, que destacou que o desenvolvimento da família de processos tecnológicos Intel 3 é uma etapa importante para a empresa na implementação do plano 5N4Y, que envolve a introdução de cinco novos processos tecnológicos em quatro anos, a partir de 2021.

No final do ano passado, a primeira versão da tecnologia de processo Intel 3 atingiu o estágio de prontidão para produção em massa e atualmente está sendo usada para produzir produtos em uma linha experimental em Oregon, bem como em uma instalação da Intel na Irlanda. . Usando a tecnologia de processo Intel 3, a empresa produzirá não apenas componentes de seus próprios processadores para servidores Xeon 6 da família Sierra Forest, mas também chips para pedidos de clientes terceiros.

Dentro da família Intel 3, existem quatro opções de processos tecnológicos que serão utilizados em diferentes etapas para a produção de componentes para diversos fins. O Intel 3-T será diferente do Intel 3 básico no uso de conexões intercamadas que permitem o uso de layouts espaciais complexos de chips, incluindo opções para colocar chips de memória em cima de um chip com núcleos de computação. Os processos de fabricação Intel 3 e Intel 3-T serão utilizados para a produção de componentes nos segmentos de servidores e de consumo, bem como para a produção de substratos de chips multi-chip. Em comparação com a tecnologia de processo Intel 4, eles proporcionarão uma melhoria de 18% no desempenho do consumo de energia em todo o núcleo do processador, bem como um aumento na densidade do transistor em 10%.

A tecnologia Intel 3-E fornecerá recursos adicionais de integração com interfaces heterogêneas, incluindo analógicas e mistas. Ele será usado para produzir chipsets e componentes de sistemas de armazenamento. Por fim, a variante Intel 3-PT combinará as vantagens das três anteriores dentro dos mesmos padrões tecnológicos. O passo das conexões intercamadas será reduzido para 9 mícrons e métodos híbridos serão usados ​​para combinar cristais diferentes em um pacote. Isto aumentará ainda mais a densidade de embalagem dos chips em uma embalagem tridimensional. Como todas as tecnologias desta família, o Intel 3-PT utilizará uma estrutura de transistor FinFET. Ele será usado para produzir processadores de uso geral e chips para aceleradores de computação com estrutura mais complexa e alto desempenho. As ferramentas de desenvolvimento compatíveis com a família de tecnologias Intel 3 envolvem o uso de bibliotecas de 240 nm destinadas à criação de chips de alto desempenho, bem como bibliotecas de 210 nm usadas para aumentar a densidade do transistor.

Como parte da tecnologia de processo Intel 20A, a empresa apresentará posteriormente uma nova estrutura de transistor RibbonFET e tecnologia de fonte de alimentação traseira PowerVia. A Intel falará detalhadamente sobre essas inovações separadamente no futuro.