Para a produção em série de chips usando a tecnologia Intel 14A, a empresa de mesmo nome precisará de vários scanners litográficos ASML com alto valor de abertura numérica (High-NA EUV), e o segundo dos sistemas que recebeu nesta classe foi recentemente montado com sucesso e instalado em Oregon, como ficou conhecido outro dia.
Fonte da imagem: ASML
Na verdade, o início da instalação do segundo scanner litográfico ASML desta classe ficou conhecido no início de agosto, mas o processo só foi concluído recentemente. Segundo a TrendForce, o diretor de equipamentos de litografia da Intel, Mark Phillips, chegou a afirmar que os primeiros resultados dos testes deste equipamento superaram as expectativas da empresa. O fabricante do processador montou e instalou o segundo sistema da classe High-NA EUV mais rápido que o primeiro.
Segundo a Philips, quase toda a infraestrutura necessária para começar a produzir chips com esse equipamento já está pronta, e a empresa já começou a inspecionar as fotomáscaras que serão utilizadas em conjunto com esse equipamento. A Intel poderá começar a produzir chips com o mínimo esforço. É claro que nos próximos meses esta será uma produção piloto, que será ampliada para produção em série não antes de 2026.
Como acrescentou um representante da Intel, para dominar a produção em massa de chips usando a tecnologia 14A, a empresa pode precisar de novos tipos de compostos fotorresistentes, mas até 2026-2027 eles aparecerão em quantidades suficientes.
A empresa taiwanesa TSMC, que até agora demonstrou publicamente sua falta de desejo de dominar a litografia de classe High-NA em um curto espaço de tempo, recebeu seu primeiro scanner de litografia desse tipo no mês passado. Embora a sul-coreana Samsung Electronics esteja interessada em adquirir esses equipamentos da ASML, após recentes mudanças de pessoal ela se prepara para reduzir o volume de compras em relação aos planos originais. Aparentemente, o papel deste equipamento no desenvolvimento tecnológico da Samsung foi revisto em baixa.