ASML: A demanda por processos legados aumentou significativamente nos últimos três anos

A empresa taiwanesa TSMC não escondeu sua intenção de aumentar os volumes de produção usando litografia madura pela primeira vez em muitos anos, então seu fornecedor de equipamentos, ASML, também confirma essa tendência. Acontece que a alta demanda por processos técnicos antigos se deve ao desejo dos participantes do mercado de conter o crescimento do consumo de energia dos componentes. Cristais grandes estão na moda, como acrescentam os representantes da ASML.

Fonte da imagem: ASML

Até agora, como você sabe, o desenvolvimento da indústria de semicondutores estava sujeito à chamada lei de Moore – uma regra empírica que determinava o ritmo de aumento da densidade dos transistores. O tamanho dos chips do processador vem diminuindo gradualmente, se considerarmos um nível fixo de desempenho. O CEO da ASML, Peter Wennink, disse em um evento trimestral que a empresa considera adequado atender à demanda do mercado por processadores com maior desempenho e menor consumo de energia, fabricando chips maiores. Nesse caso, a densidade do fluxo de calor é reduzida, é necessária menos energia para resfriar os processadores e isso ajuda a reduzir os danos ambientais.

Em segundo lugar, a demanda por processos técnicos maduros é fornecida pelo desenvolvimento da Internet das coisas, cujos componentes devem ser não apenas econômicos, mas também baratos. O número de projetos usando padrões litográficos de 180 a 28 nm, segundo o chefe da ASML, aumentou significativamente nos últimos dois ou três anos. Os setores de automação industrial e automotivo também estão gerando demanda por uma gama crescente de componentes semicondutores maduros. Algumas das especificidades da demanda no setor são ilustradas pelos comentários dos representantes da Tesla no evento trimestral de ontem. Eles explicaram que a empresa não tem escassez de chips fabricados com processos técnicos avançados, mas no segmento de litografia madura, a demanda está longe de ser satisfeita.