A fabricação semicondutora usando a litografia EUV será mais barata

Uma das razões para a recusa da Intel de usar scanners EUV para a fabricação de processadores está em um alto nível de casamento. O casamento surge da poluição da Photoshoplands, e é possível evitar isso apenas com a ajuda de filmes de proteção especiais. O problema é que ainda não há filmes com o desempenho necessário para a radiação EUV. Mas a partir deste ano tudo deve mudar. A Mitsui começará a produção em massa de filmes de proteção.

O filme protetor da empresa ASML (preste atenção, não é transparente, o que complica os testes de defeitos). Fonte de imagem: ASML

Acreditou-se anteriormente que os scanners EUV no processo de irradiação do Photoshoblon (Máscaras) criam tão pouca contaminação (vários tipos de partículas sólidas) que as Máscaras não teriam que ser especificamente protegidas. Após o uso de scanners EUV, Samsung e TSMC, descobriu-se que as Máscaras ainda estão poluídas, levando ao crescimento do casamento. A partir disso, nenhum deles usa os scanners EUV não pararam, mas o processo de verificar as Máscaras de fotos para defeitos foi significativamente mais complicado – este trabalho tem que fazer com frequência e cuidadosamente.

Em paralelo, a complexidade da fabricação de fotoshoplands está crescendo e o número de fotos de fotos necessárias para a fabricação de um chip está aumentando. Por exemplo, para os modernos scanners de 193 nm, o custo de uma Máscara chega a 00 mil, e o custo da Máscara EUV chega a 00 mil. Para a liberação de chip de 32 nm, 50 Máscaras necessárias e, para 16 nM. já é necessário para 75 fotos da foto. Tudo isso significa que as fotosAles precisam ser protegidas tanto quanto possível.

O problema com Máscaras para a projeção EUV surgiu pela razão que muito poucos materiais podem suportar o meio na câmara de trabalho do scanner. Além disso, uma vez que, no caso de EUV, a projeção é realizada pela reflexão no sistema espelhado, e não no lúmen, como para os scanners de 193 nm, 13,5-nm feixe passa duas vezes através do filme protetor, aquecido a temperaturas 1000 ° C. Além disso, o filme protetor deve ser transparente para o comprimento de onda do raio de exposição, que impõe dificuldades adicionais, porque a força é adicionada aqui.

Filme protetor de perspectiva em nanotubos de carbono (transparente para inspeção óptica). Fonte da imagem: imec

Criar um filme protetor para os scanners EUV foi consumido pela ASML, que é o único fabricante dos scanners desse intervalo no mundo. Seus filmes não podem se orgulhar de características de registro, por exemplo, o nível de transparência é de apenas 90% a uma capacidade de 400 W, que reduz o desempenho dos scanners em 20%. Mas é melhor que nada. Mas verdadeiramente boas notícias é que a ASML transferiu o direito à produção de filmes de protetores EUV da Mitsui. Argumenta-se que a Mitsui já estabeleceu o equipamento necessário para a produção e está pronto para iniciar a produção em massa de filmes de proteção este ano. Fornecedor confiável com produtos com características estáveis ​​é o que a produção de chips pode fazer com que os scanners EUV sejam mais confiáveis ​​e mais baratos.