O centro de pesquisa belga Imec e a empresa holandesa ASML assinaram um memorando de entendimento para apoiar a pesquisa de semicondutores e a inovação sustentável na Europa. A assinatura dá início à segunda fase do trabalho conjunto dessas organizações no desenvolvimento de equipamentos e processos técnicos para a produção de chips com padrões inferiores a 10 nm – até um nanômetro e menos, que serão utilizados em todas as principais fábricas.
De uma forma ou de outra, a Imec e a ASML estão envolvidas em projetos conjuntos de semicondutores há mais de 40 anos. Em 2018, eles concordaram em tornar os scanners litográficos ainda melhores para permitir a produção em massa de chips com normas inferiores a 10 nm. Para esse fim, a ASML forneceu o então mais avançado scanner NXE:3400B com uma abertura numérica (NA) de 0,33 para a linha experimental Imec e planejou enviar o ainda mais avançado scanner EXE:5000 com NA 0,55.
Na linha piloto, a Imec e a ASML trabalharam nos meandros da produção de chips e trabalharam na melhoria de scanners e equipamentos de teste, bem como no teste de várias composições fotorresistentes, métodos de fabricação de fotomáscaras e outras pesquisas que ajudariam no desenvolvimento de processos de fabricação cada vez mais finos.
O novo tratado nos permitirá ir ainda mais longe nesse caminho. Agora a ASML enviará um scanner ainda mais novo, EXE:5200 com valor de abertura numérica de 0,55, para instalação na linha experimental do Imec. Além deste equipamento, o mais recente NXE:3800 com 0,33 NA EUV, scanner de imersão DUV (TWINSCAN NXT:2100i), estação de metrologia óptica Yieldstar e HMI multibeam serão enviados para a Imec.