O centro de pesquisa belga Imec anunciou a aquisição do mais recente scanner EUV da ASML, o TWINSCAN EXE:5200, com alta abertura numérica de 0,55. O scanner proporcionará resolução sem precedentes para a fabricação de semicondutores, garantindo uma forte demanda por essas tecnologias por parte dos fabricantes de chips. Isso permitirá que a Europa continue sendo uma fornecedora de tecnologia de processo, como tem sido nas décadas anteriores.
Fonte da imagem: Imec
O novo scanner superará a resolução óptica dos sistemas EUV convencionais, com uma abertura numérica (NA) de 0,33, e também proporcionará maior produtividade no processamento de wafers, estabilidade operacional e velocidade de processo. O sistema será implementado na sala limpa de processamento de wafers de 300 mm da Imec e será a peça central da linha piloto NanoIC, projetada para acelerar o desenvolvimento e a validação de tecnologias de fabricação de chips sub-2 nm e impulsionar a transição para a era Ångström.
A aquisição, pela Imec, de um dos poucos sistemas desse tipo no mundo reforça ainda mais a liderança dos desenvolvedores europeus de tecnologia de processos na preparação do ecossistema global de semicondutores para a próxima geração de fabricação de lógica e memória.
As vantagens técnicas dos sistemas EUV de alta abertura numérica (High-NA) incluem a capacidade de imprimir estruturas menores em uma única passagem, simplificando processos, reduzindo custos e aumentando o rendimento em comparação com o processo de mascaramento em múltiplas etapas (multiprojeção) dos scanners de gerações anteriores. O sistema EXE:5200 oferece maior produtividade, melhor precisão no alinhamento de componentes e compatibilidade com novos materiais fotorresistentes (incluindo fotorresistentes de óxido metálico), o que é fundamental para a criação de matrizes de transistores ultradensas.
Nos últimos dois anos, a Imec e a ASML colaboraram extensivamente em um laboratório conjunto de EUV de alta NA em Veldhoven, na Holanda, onde recordes mundiais de resolução de linha já foram alcançados — por exemplo, linhas de 16 nm de largura foram produzidas em uma única passagem. AgoraTudo isso será replicado no Imec em linhas de produção quase comerciais, ampliando a pesquisa para escala industrial com integração completa à cadeia de suprimentos de matérias-primas, processamento e metrologia.
A plena operacionalidade do sistema EXE:5200 está prevista para o quarto trimestre de 2026. Até lá, a pesquisa em EUV de alta NA continuará no laboratório conjunto ASML-Imec em Veldhoven, garantindo a continuidade do trabalho para ambos os parceiros. A instalação no Imec permitirá que o ecossistema (principais fabricantes de chips, fornecedores de equipamentos e fornecedores de materiais) obtenha acesso antecipado e abrangente às tecnologias de próxima geração. Isso é particularmente importante para o desenvolvimento de aceleradores de IA com baixo consumo de energia, memória de alta densidade e outras aplicações que exigem miniaturização extrema.
A importância estratégica deste evento é sustentada pela estreita parceria do Imec com a ASML, pelo apoio da União Europeia, dos governos belga e holandês e pelo financiamento dos programas Digital Europe e Horizon Europe. A aquisição de um sistema tão caro e único (o custo de um único sistema é estimado em centenas de milhões de dólares) confirma o papel do Imec como um trampolim fundamental para a indústria na “era do angstrom”. A tecnologia EUV de alta NA está se tornando a pedra angular para estender a Lei de Moore além de 2 nm, permitindo uma escalabilidade economicamente viável e abrindo caminho para chips A10/A7 e além, o que é crucial para a competitividade da Europa na corrida global de semicondutores.