ASML revela quando construirá máquinas para produzir chips com resolução de 5 nm

A ASML é única na indústria holandesa de alta tecnologia por ser a única empresa a produzir scanners litográficos que permitem a produção de componentes semicondutores de ponta. Segundo a ASML, a Lei de Moore continuará válida nos próximos anos, à medida que os fabricantes de chips passarem a contar com equipamentos cada vez mais sofisticados.

Fonte da imagem: ASML

Como observou Jos Benshop, vice-presidente executivo de tecnologia da ASML, em entrevista à Nikkei Asian Review, atualmente, somente esta empresa é capaz de oferecer aos clientes scanners litográficos para trabalhar com radiação ultravioleta ultradura (EUV). Segundo o diretor, a ASML deve seu sucesso a uma extensa rede de parceiros e contratantes, como a Carl Zeiss, visto que, em um campo de atividade tão complexo, inicialmente não dispunha dos recursos necessários para fabricar tudo internamente. Com a escala atual dos negócios, a ampla cooperação ainda traz vantagens.

Os scanners litográficos mais avançados atualmente fornecidos pela ASML oferecem uma resolução de 8 nm em uma única passagem. Ao mesmo tempo, especialistas da ASML e da Carl Zeiss já estão desenvolvendo equipamentos com resolução de 5 nm. Eles estarão disponíveis no mercado até 2035 e permitirão uma fabricação de chips mais rápida e com maior qualidade.

Além disso, Jos Benschop afirmou que a ASML está trabalhando para aumentar a abertura numérica de seus equipamentos. Quanto maior esse parâmetro, mais finas as estruturas podem ser criadas em um wafer de silício. Os scanners EUV padrão têm uma abertura numérica de 0,33, e a última geração desses equipamentos tem uma abertura de 0,55 e pertence à classe High-NA. Para aumentar o valor da abertura para 0,7, é necessário redesenhar radicalmente muitos sistemas-chave que fazem parte dos scanners litográficos, como explicou o representante da ASML. Ele não especificou quando tais equipamentos estarão no mercado.

Embora a ASML já esteja fornecendo amostras de scanners EUV de alta resolução para a Intel e a TSMC, seu uso em massa só começará no final desta década ou no início da próxima, de acordo com o vice-presidente executivo da empresa. A ASML desenvolve a tecnologia básica EUV desde 1997, e os princípios que a fundamentam foram formulados em meados da década de 80 do ano passado. No entanto, a ASML não conseguiu criar as primeiras amostras de sistemas EUV antes de 2006, e sua produção em massa só começou em 2019.

No ano passado, a ASML gastou 16 bilhões de euros em componentes e materiais. Desde 2015, a empresa também aumentou significativamente seus custos com pesquisa e desenvolvimento. Para ser mais preciso, eles aumentaram de 1,1 para 4,3 bilhões de euros em comparação ao ano passado.