A ASML acelera a tecnologia EUV para velocidades de quilowatts – a produtividade dos scanners aumentará em 50% em poucos anos.

A ASML, líder global em sistemas de fotolitografia EUV e DUV para a indústria de semicondutores, alcançou um avanço significativo na tecnologia de litografia EUV e planeja aumentar a produção de chips em 50% até 2030. Os engenheiros da empresa aumentaram a potência da fonte de luz para 1000 watts, possibilitando o processamento de até 330 wafers de silício por hora e reduzindo consideravelmente o custo de fabricação de processadores avançados.

Fonte da imagem: ASML

Segundo a Reuters, pesquisadores desenvolveram um método para aumentar drasticamente a potência da fonte de luz em sistemas de litografia ultravioleta extrema (EUV). Esse avanço tecnológico aumentará a produtividade dos equipamentos em 50% até o final da década e fortalecerá a posição da empresa em meio à crescente concorrência de fabricantes americanos e chineses. O principal tecnólogo da ASML, Michael Purvis, confirmou a plena funcionalidade do sistema de 1000 watts em condições reais de produção e observou que não há barreiras fundamentais para aumentar ainda mais a potência para 2000 watts.

A principal vantagem de aumentar a potência da fonte de luz dos atuais 600 para 1000 watts é a capacidade de produzir mais produtos por unidade de tempo. Como os chips são impressos usando fotolitografia, a maior intensidade de luz reduz o tempo de exposição da camada química na pastilha de silício. Teun van Gogh, vice-presidente da divisão de máquinas EUV, prevê que essa atualização permitirá que o equipamento processe aproximadamente 330 wafers por hora até 2030, em comparação com os atuais 220. O aumento da capacidade de processamento dos scanners reduzirá o custo de cada dispositivo para os clientes e sustentará a viabilidade econômica do uso das tecnologias EUV.

Para concretizar esse plano, a ASML aprimorou sua tecnologia de processo, já considerada um dos maiores desafios de engenharia. Esse sistema utiliza um feixe de laser de alta potência disparado contra um fluxo de estanho fundido, produzindo luz de 13,5 nanômetros.A principal inovação foi dobrar a frequência das gotículas para 100.000 por segundo e usar um esquema de dois pulsos de laser para moldá-las, diferenciando o sistema dos modelos atuais. O professor Jorge J. Rocca, da Universidade Estadual do Colorado, comentou sobre a magnitude do trabalho, classificando a obtenção de potência em nível de quilowatt como uma conquista notável que exige um profundo conhecimento de múltiplas tecnologias.

A Reuters observa que é justamente esse alto nível de engenharia que ajuda a holding holandesa a manter sua distância de novos concorrentes, como as startups americanas Substrate e xLight, que estão desenvolvendo suas soluções com financiamento do governo dos EUA.