Nos Estados Unidos, desenvolveu uma nova tecnologia para a produção de semicondutores nanométricos

É impossível imaginar o desenvolvimento futuro da microeletrônica sem melhorar a tecnologia para a produção de semicondutores. Para expandir os limites e aprender a produzir elementos cada vez menores em cristais, são necessárias novas tecnologias e novas ferramentas. Uma dessas tecnologias pode ser um grande avanço para os cientistas americanos.

Uma equipe de pesquisadores do Laboratório Nacional de Argonne, Departamento de Energia dos EUA, desenvolveu uma nova técnica para criar e gravar os filmes mais finos na superfície dos cristais. Potencialmente, isso pode levar à produção de chips com uma escala menor de padrões tecnológicos do que hoje e no futuro próximo. Uma publicação de estudo é publicada na revista Chemistry of Materials.
A técnica proposta se assemelha ao processo tradicional de deposição e gravação da camada atômica, somente em vez de filmes inorgânicos a nova tecnologia cria e trabalha com filmes orgânicos. Na verdade, por analogia, a nova tecnologia é chamada de deposição de camada molecular (MLD) e gravura de camada molecular (MLE).
Como no caso da gravação em camada atômica, o método MLE utiliza tratamento de gás em uma câmara da superfície de um cristal com filmes de material orgânico. O cristal é tratado ciclicamente com dois gases diferentes alternadamente até que o filme seja diluído até uma espessura predeterminada.
Os processos químicos, neste caso, obedecem às leis da auto-regulação. Isso significa que camada por camada são removidas uniformemente e de maneira controlada. Se você usar Máscaras fotográficas, poderá reproduzir a topologia do futuro chip no chip e gravar o padrão com a maior precisão.

No experimento, os cientistas usaram gás contendo sais de lítio e gás à base de trimetilalumínio para condicionamento molecular. Durante a gravação, o composto de lítio reagiu com a superfície do filme de alucona de tal maneira que o lítio se depositou na superfície e quebrou a ligação química no filme. Em seguida, o trimetilalumínio foi alimentado, o que removeu a camada de filme com lítio e assim sucessivamente até que o filme fosse reduzido à espessura desejada. Os cientistas têm certeza de que um bom controle de processo pode permitir que a tecnologia proposta incentive o desenvolvimento da fabricação de semicondutores. .