Não é assim que se entende: o SMIC chinês ainda está longe de dominar a tecnologia de processo de 7 nm

O EE Times China teve que refutar as informações publicadas por alguns meios de comunicação sobre a prontidão da empresa chinesa SMIC em lançar produtos de 7 nm no quarto trimestre deste ano. A indústria chinesa ainda está aprimorando a tecnologia de 14nm, e o EUV só pode sonhar com a introdução do EUV.

Fonte da imagem: Hardware de Tom

Cerca de uma semana e meia atrás, a mídia ocidental informou sobre as intenções da empresa chinesa SMIC de organizar a produção de produtos semicondutores de 7 nm em suas empresas até o quarto trimestre deste ano. Os representantes do EE Times tiveram que entrar em contato com a equipe do SMIC para resolver esse mal-entendido.
Para começar, o SMIC agora usa a primeira geração de tecnologia de 14 nm e espera dominar a segunda até o final do ano. Na terminologia do fabricante chinês, é chamado de “N + 1”, e em suas qualidades só pode competir parcialmente com a tecnologia de processo de 7 nm dos líderes mundiais. Segundo representantes da SMIC, a segunda geração da tecnologia de 14 nm pode chegar perto das ofertas de 7 nm dos concorrentes apenas em termos de consumo e estabilidade de energia e, em termos de velocidade, está longe de ser rival.
De fato, a transição para uma tecnologia de processo aprimorada de 14 nm permitirá ao SMIC, de acordo com suas próprias estimativas, aumentar a velocidade dos transistores em cerca de 20% e terá cerca de 35% a mais para os concorrentes. Mas, a um preço de 14 nm, os produtos SMIC de segunda geração serão 10% mais acessíveis do que as soluções concorrentes fabricadas com a tecnologia de 7 nm. Para os clientes chineses, os serviços deste último podem não estar disponíveis devido à difícil situação política; portanto, qualquer progresso no nível da “litografia nacional” será percebido por eles gentilmente.
É importante que a segunda geração da tecnologia de processo de 14 nm realizada pelo SMIC possa reduzir o consumo de energia em 57% e a área ocupada pelo cristal possa ser reduzida de 55 a 63%. Para a produção de produtos SMIC de segunda geração de 14 nm, não é necessário equipamento litográfico usando um laser com radiação ultravioleta ultra-dura (EUV). Se as barreiras políticas não impedirem o SMIC de receber scanners ASML EUV, esse tipo de litografia será introduzido na próxima geração de produtos de empresas chinesas.
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