Na semana passada, da boca do chefe da Intel, havia ainda outra promessa de devolver a “Lei de Moore” aos trilhos antigos, o que tornaria possível mudar para um novo processo a cada dois ou dois anos e meio. Na conferência do IEDM, ficou claro que a Intel está escolhendo um ritmo mais alto para a mudança de processos tecnológicos nos próximos dez anos. Por exemplo, se a tecnologia de processo de 5 nm deve ser dominada até 2023, em 2029 a empresa espera mudar para a tecnologia de 1,4 nm.
Fonte da imagem: AnandTech
O representante da AnandTech conseguiu capturar esse slide da apresentação da Intel na conferência IEDM. Torna-se óbvio que, do intervalo de dois a dois anos e meio, a empresa escolheu uma opção mais ambiciosa na determinação da frequência de mudança de processos tecnológicos. Como afirmado anteriormente por representantes da gigante do processador, as soluções arquitetônicas não devem estar vinculadas a um estágio específico da litografia. Neste slide, esse princípio é implementado na capacidade de transferir produtos que foram originalmente planejados para lançamento usando tecnologia mais avançada, “um passo atrás” para o processo anterior.
Implementar litografia com radiação ultravioleta ultra-dura (EUV), como já observado, a Intel vai para 2021 no âmbito da tecnologia de processo de 7 nm. O chefe da Intel confirmou recentemente que o primeiro produto de 7 nm será lançado no final de 2021. No seu desenvolvimento, cada processo deve passar por três fases. Um ano após a estréia, uma variação com um “mais” no símbolo deve aparecer, dois anos depois com dois “mais”. No mesmo ano, uma transição para normas litográficas mais avançadas deve ser realizada, seu desenvolvimento será sobreposto.
O que é característico, o desenvolvimento de algumas novas “funções litográficas” está planejado para 2023. Se levarmos em conta que esse período nos gráficos da Intel está associado ao desenvolvimento da tecnologia de 5 nm, e a ASML nesse momento começará a fornecer scanners litográficos de uma nova geração, provavelmente estaremos falando de litografia EUV com um alto valor de abertura numérica (High-NA EUV). Além disso, a Intel será forçada a experimentar novos materiais e estruturas de semicondutores no caminho para dominar a tecnologia de processo de 1,4 nm. O principal é que, no final desse caminho, a empresa não deve mais ser vítima de suas ambições, como aconteceu na história da tecnologia de processo de 10 nm.
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