ASML anuncia excelente demanda para scanners EUV

A empresa holandesa ASML, líder global na produção de equipamentos litográficos para a fabricação de semicondutores, registrou um trimestre recorde para o número total de aplicações. Além disso, isso mostrou uma demanda extremamente alta por scanners EUV (13,5 nm). Oficialmente, apenas duas empresas usam esse equipamento na indústria de fabricação de chips – Samsung e TSMC, e ambas na produção de produtos de 7 nm. No entanto, ao todo, cerca de 60 scanners EUV já foram instalados no mundo em linhas experimentais de outras empresas e em vários centros de pesquisa.

Scanner ASML EUV, NXE Modelo: 3350B

A receita da ASML no terceiro trimestre do ano civil de 2019 alcançou 2,987 bilhões de euros (aproximadamente US $ 3,3 bilhões). O lucro líquido trimestral da empresa foi de 627 milhões de euros, ou na região de US $ 692,7 milhões. A empresa afirma que a receita, o lucro líquido e o volume de aplicativos no trimestre de relatório superaram as expectativas de todos os analistas. Ao mesmo tempo, a ASML notou a demanda por scanners para a produção de “lógica”, enquanto os fabricantes de memória diminuíram a demanda por equipamentos.
Durante o trimestre, foram entregues 45 scanners DUV (193 nm) e 7 scanners EUV (mais 5 scanners usados ​​anteriormente). Em apenas nove meses de 2019, a ASML enviou 136 scanners, dos quais 18 eram EUVs. No quarto trimestre, está previsto o envio de outros 8 scanners EUV. Assim, em um ano, a ASML fornecerá aos clientes 30 instalações com projeção na faixa ultravioleta extrema (ultra dura). Ao mesmo tempo, os clientes da empresa fizeram pedidos para a produção de outros 23 novos scanners EUV. O portfólio total de aplicativos ASML no terceiro trimestre foi avaliado em 5,111 bilhões de euros. Nunca antes um fabricante holandês recebeu tanto volume de pedidos em um quarto.
É importante observar que o manual ASML confirma o interesse dos fabricantes de memória nos scanners EUV. Este equipamento será usado não apenas para o lançamento da lógica, mas também para a produção de chips DRAM e NAND. De fato, um grande número de aplicações para a fabricação de scanners EUV confirma indiretamente esse interesse. Mudar para a projeção EUV tornará a produção mais barata, usando menos Máscaras fotográficas e, como resultado, reduzindo os ciclos de produção.
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