SMIC começa a testar sistema DUV desenvolvido na China para produção de chips de 7 nm

Diante da escalada das sanções americanas, o sucesso da empresa chinesa SMIC em litografia foi, em determinado momento, prejudicado por sua capacidade de acessar uma determinada classe de equipamentos que havia sido importada anteriormente. Os sistemas de litografia DUV (Ultravioleta Profundo) da startup chinesa só foram implementados recentemente no processo de produção.

Fonte da imagem: SMIC

Conforme relatado pelo Financial Times, a SMIC iniciou recentemente os testes de um scanner litográfico de ultravioleta profundo (DUV) fabricado pela Yuliangsheng, uma empresa chinesa fundada em Xangai. Há algum tempo, as importações desse equipamento para a China estão bloqueadas pelas sanções dos EUA, embora sua disponibilidade seja fundamental para a capacidade da SMIC de produzir chips mais avançados.

Anteriormente, os fabricantes chineses de semicondutores nessa área dependiam fortemente da empresa holandesa ASML, que é obrigada a cumprir as exigências não apenas das autoridades europeias, mas também das americanas, uma vez que depende de tecnologia originária dos EUA. Outra empresa chinesa, a SMEE, também fornece sistemas DUV de seu próprio projeto, mas seu desempenho é inferior aos oferecidos pela Yuliangsheng.

As empresas ocidentais produzem os chips mais avançados usando equipamentos com radiação ultravioleta ultradura (EUV), mas seus fornecimentos para a China também foram proibidos há muito tempo e ainda não foi possível desenvolver uma alternativa aos fornecedores chineses. Mesmo no caso dos scanners DUV da Yuliangsheng, nem todos os componentes para sua produção são fabricados na China e, portanto, ainda há muito trabalho a ser feito rumo à substituição total das importações.

A SMIC está bastante satisfeita com os resultados dos primeiros experimentos com esse equipamento, mas ainda é difícil prever quando será possível utilizá-lo para a produção em massa de chips. Além disso, a fabricante chinesa de chips terá tempo para introduzir scanners DUV de nova geração no ecossistema existente em 2019.Na melhor das hipóteses, um ano após o recebimento em quantidades suficientes. O equipamento específico é voltado para litografia imersiva, que a empresa holandesa ASML também oferece aos seus clientes fora da China.

O equipamento de origem chinesa em teste foi formalmente projetado para a produção de chips de 28 nm, mas a SMIC espera utilizá-lo para a produção de chips de 7 nm, utilizando múltiplas fotomáscaras e passes. Em circunstâncias favoráveis, este equipamento também poderá ser utilizado para a produção de chips de 5 nm, algo que a SMIC almeja há muito tempo.

A empresa chinesa SiCarrier, acionista da já mencionada Yuliangsheng, está experimentando o desenvolvimento de equipamentos EUV, mas é muito cedo para falar em sucesso nessa área. Fundada em 2021, sua missão é criar equipamentos de litografia que permitam aos clientes chineses abandonar os concorrentes ocidentais, ao mesmo tempo em que alcançam um nível comparável de desenvolvimento tecnológico. A SMIC planeja utilizar ativamente equipamentos chineses em suas fábricas não antes de 2027.