Samsung obtém scanner litográfico para tecnologia EUV de alta NA

Para produzir chips usando tecnologias com padrões inferiores a 2 nm, serão necessários scanners litográficos de nova geração com alta abertura numérica (High-NA) e usando radiação ultravioleta ultradura (EUV). A Samsung Electronics já recebeu a primeira amostra desse equipamento para instalação em sua principal fábrica em Hwaseong.

Fonte da imagem: Samsung Electronics

Considerando que a Intel já tem pelo menos dois desses scanners litográficos ASML instalados no Oregon, e que a rival TSMC também demonstrou interesse cauteloso em tais equipamentos, a iniciativa da Samsung pode ser considerada oportuna. De acordo com a mídia sul-coreana, a empresa recebeu o primeiro scanner ASML TwinScan EXE:5000 para uso em sua unidade de Hwaseong no início deste mês. Equipamentos dessa classe serão necessários para a Samsung realizar experimentos de produção de chips usando tecnologias mais finas que 2 nm.

No quarto trimestre do ano passado, a Samsung ocupou 8,1% do mercado global de serviços de fabricação de chips por contrato, de acordo com a TrendForce. Em apenas um trimestre, as perdas chegaram a um ponto percentual, enquanto a TSMC fortaleceu sua posição em 2,4 pontos percentuais. até 67,1%. A receita da Samsung caiu sequencialmente em 1,4% para US$ 3,26 bilhões. O desenvolvimento oportuno de processos tecnológicos avançados permitirá que a Samsung mantenha sua posição de mercado de forma mais eficaz. Até 2028, a TSMC espera introduzir equipamentos EUV de alta NA na produção em massa de chips, enquanto a Intel espera fazer isso muito antes.