O primeiro scanner de litografia ASML foi instalado para produzir chips de 2 nm usando tecnologia Low-NA EUV

Um tanto esquecido no contexto dos avanços recentes entre Intel e ASML é o fato de que os fabricantes de chips esperam dominar a produção de 2 nm sem mudar para o uso de scanners EUV de alta abertura numérica (High-NA) mais caros. A ASML anunciou esta semana que o primeiro scanner Twinscan NXE:3800E de baixa abertura numérica (Low-NA) foi instalado por um de seus clientes.

Fonte da imagem: ASML

Este equipamento, segundo a AnandTech, possui baixa abertura numérica (Low-NA) de 0,33, mas comparado à geração anterior de scanners de litografia ASML, oferece maior produtividade e um custo mais razoável em comparação aos scanners que utilizam abertura numérica elevada. .

Em qualquer caso, o custo de um scanner litográfico da série Twinscan NXE:3800E pode exceder US$ 200 milhões, embora o valor específico não seja divulgado. Espera-se que este scanner seja capaz de processar cerca de 220 wafers de silício por hora contra as 160 peças anteriores, justificando seu alto preço com desempenho adequado, pois o equipamento para litografia EUV da geração anterior, para dizer o mínimo, não era muito rápido.

Os clientes ASML poderão usar esse scanner para produzir chips usando tecnologias de 2 nm e 3 nm. O novo sistema é a quinta geração de equipamento ultravioleta ultra-duro (EUV) da ASML combinado com baixa abertura numérica (Low-NA). A ASML planeja lançar pelo menos mais uma geração desse equipamento, que será designada Twinscan NXE:4600F e aparecerá por volta de 2026.