O atraso das autoridades norte-americanas no processo de aprovação de um pacote de leis de US$ 52 bilhões que prevê o subsídio à construção de empresas da indústria de semicondutores no território do país alterou ligeiramente o cronograma para a construção de duas empresas pela Intel em Ohio, mas apenas em nível cerimonial. A cerimônia contou esta semana com a presença do presidente dos Estados Unidos, do governador do estado e do chefe da Intel.
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De acordo com informações publicadas em um comunicado à imprensa no site da Intel, outros funcionários de vários níveis também participaram da cerimônia de inauguração do canteiro de obras em Ohio. Se as intenções da Intel de gastar US$ 20 bilhões na construção de instalações em Ohio são conhecidas há muito tempo, esta semana a empresa se concentrou em uma iniciativa educacional de acompanhamento. Conforme especificado, ao longo de dez anos, ela destinará US$ 50 milhões para programas educacionais especializados em Ohio, que abrangerão mais de 80 instituições estaduais. Somente nos próximos três anos, a Intel alocará US$ 17,7 milhões para apoiar programas de pesquisa e educação, que serão distribuídos entre oito instituições acadêmicas de Ohio.
Em três anos, este programa fornecerá treinamento para cerca de 9.000 graduados, e 2.300 alunos se tornarão beneficiários de bolsas de estudo direcionadas. Cerca de 7.000 pessoas serão empregadas diretamente na construção das fábricas de Ohio e, a longo prazo, fornecerão emprego para cerca de 3.000 especialistas qualificados. Conforme enfatizado mais uma vez pelos representantes da Intel, as duas novas instalações da empresa em Ohio se concentrarão não apenas na produção de produtos para suas próprias necessidades, mas também atenderão aos interesses de clientes de terceiros. Foi explicado anteriormente que Ohio será o destino de scanners litográficos ASML avançados com alta abertura numérica, que no futuro permitirão a produção de produtos baseados na tecnologia Intel 18A. Isso permitirá que a Intel recupere sua liderança tecnológica no campo da litografia em meados da década. Além de seus próprios produtos, a Intel já está considerando lançar produtos de ponta em Ohio para diversos clientes. Muito provavelmente, estamos falando de representantes da indústria de defesa interessados em obter produtos fabricados nos EUA que atendam aos critérios mais modernos.
O CEO da Intel, Patrick Gelsinger, agradeceu aos membros da administração presidencial dos EUA, ao Congresso e às autoridades estaduais por ajudar a empresa a “restaurar sua merecida posição como líder na fabricação de chips avançados”. Nos próximos anos, a Intel construirá duas novas instalações no Arizona, expandirá suas instalações de fabricação no Novo México e atualizará seu centro de pesquisa no Oregon para se concentrar em embalagens de semicondutores avançados e inovação em litografia. Uma linha de produção experimental será localizada aqui, permitindo que ideias avançadas de engenharia sejam trabalhadas em nível de protótipo.