O desejo da Tesla de diversificar sua produção de chips AI5 é impulsionado por dois fornecedores, portanto, esses componentes serão produzidos simultaneamente pela TSMC e pela Samsung em suas respectivas instalações nos EUA. Elon Musk explicou que a produção em massa do AI5 só começará em 2027, mas a empresa espera começar a fornecer chips AI6 aos seus clientes em meados de 2028.

Fonte da imagem: Samsung Electronics

O CEO da Tesla fez essa declaração esta semana em resposta à publicação de um usuário na rede social X, que afirmava que o chip AI5 oferece melhorias de desempenho de 5 a 40 vezes em relação ao seu antecessor em diversos critérios, com uma melhoria de 10 vezes no desempenho de inferência em comparação com os produtos da Nvidia e três vezes mais eficiência energética. O comentarista esperava que a Tesla começasse a produzir chips AI5 em 2026, mas Musk moderou as expectativas.

O CEO da Tesla explicou que, em 2026, apenas amostras de engenharia dos chips AI5 estarão prontas, ou um pequeno número de chips de produção, mas não em quantidade significativa. A produção em massa só começará em 2027. Musk também acrescentou que as versões do AI5 produzidas pela TSMC e pela Samsung terão aparências físicas ligeiramente diferentes devido às especificidades da tecnologia de processo de cada empresa, mas o software da Tesla funcionará de forma idêntica em ambas.

A produção do AI6 pode ser organizada nas mesmas fábricas do AI5 e começará em massa em meados de 2028. A IA6 será duas vezes mais rápida que a IA5. Como Musk admitiu, “a IA7 exigirá novas fábricas porque será mais ousada”. O contrato com a Samsung para a produção da IA6 foi anteriormente avaliado em US$ 16,5 bilhões. De acordo com alguns relatos, a empresa acelerou os preparativos para dominar a tecnologia de fabricação de 2 nanômetros em sua fábrica em construção em Taylor, Texas. A fábrica começará a produzir no terceiro trimestre do próximo ano, embora o plano inicial fosse fazê-lo até o final de 2026. A expectativa é que a Samsung produza produtos de 2 nanômetros.A unidade do Texas utilizará sistemas de litografia ASML TwinScan EXE:5200B, projetados para trabalhos de alta abertura numérica (High-NA). A Samsung receberá dois desses scanners de litografia nos EUA nos próximos meses.

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