A Intel poderá continuar o desenvolvimento de novos processos técnicos mesmo em caso de problemas com a transição para o uso de novos equipamentos

Até o final de 2023, a Intel espera receber o scanner litográfico ASML TWINSCAN NXE:5000, que será usado para experimentos com alta abertura numérica, mas os scanners da geração TWINSCAN NXE:5200 serão usados ​​na produção em massa, que chegará não antes de 2025. A Intel está pronta para problemas na implementação deste plano, como explicou um representante da administração da empresa.

Fonte da imagem: ASML

Declarações relevantes foram feitas pela Dra. Ann Kelleher (Ann Kelleher) durante entrevista ao site AnandTech antes mesmo do evento para investidores. Na estrutura da Intel, ela é responsável pelo desenvolvimento de processos técnicos no cargo de vice-presidente executiva, e é a Sra. Kelleher quem conduzirá a empresa à vingança tecnológica. Vale lembrar que a empresa pretende dominar cinco novos processos técnicos em quatro anos e, até 2025, já começará a fabricar produtos baseados na tecnologia de processo Intel 18A, não apenas para suas próprias necessidades, mas também para clientes de terceiros.

Consciente da falha da Intel em adotar o processo de 10nm, que acabou sendo muito longo e imprevisível, o editor da AnandTech, Ian Cutress, perguntou ao Dr. Kelleher se havia um curso de ação alternativo em caso de problemas com a compra de equipamentos com alta abertura numérica ou fase de execução correspondente da litografia. Uma porta-voz da Intel afirmou calmamente que, se o uso da chamada litografia High-NA para a fabricação de camadas individuais não for implementado em tempo hábil, o progresso no campo tecnológico ainda continuará. Foram os problemas com o desenvolvimento do processo de 10 nm que ensinaram a empresa a desenvolver um plano de ação claro e consistente em caso de problemas com a nova litografia.

Ela também explicou que a Intel originalmente queria introduzir a litografia de radiação ultravioleta ultra-dura (EUV) como parte da tecnologia de processo de 10 nm, mas quando sua primeira geração foi dominada, não foi possível fazer isso e, posteriormente, era tarde demais para mudar alguma coisa. A empresa agora começará a usar a litografia EUV como parte da tecnologia de 4 processos da Intel, que será usada para fabricar os processadores cliente Meteor Lake no segundo semestre deste ano. Este processo técnico dará vida a alguns componentes de rede produzidos por encomenda de uma empresa terceirizada.