A Intel instalará em breve um segundo scanner de litografia ASML com High-NA EUV – produzirá chips de 1,4 nm

O primeiro scanner de litografia ASML com alto valor de abertura numérica (High-NA EUV) foi enviado para as necessidades da Intel em dezembro do ano passado, sua instalação foi concluída no centro de pesquisa em Oregon em abril e na última conferência trimestral o O chefe da Intel confirmou que a empresa se preparava para receber uma segunda cópia desse equipamento da ASML.

Fonte da imagem: Intel

Esta declaração do CEO Patrick Gelsinger, conforme notado pela Reuters, passou despercebida no meio do desastroso relatório trimestral, mas este facto ainda foi mencionado pelos seus lábios. “A segunda ferramenta High-NA foi enviada para nossas instalações em Oregon”, explicou sucintamente o CEO da Intel, acrescentando que os investimentos iniciais da empresa em tecnologia de ponta estão mostrando bons resultados. Como se sabe, a Intel precisará desses equipamentos para produzir chips usando a promissora tecnologia Intel 14A a partir de 2027, mas em nível experimental pretende usá-los como parte da tecnologia de processo Intel 18A mais madura.

Em meados de julho, representantes da ASML também admitiram que a empresa havia começado a enviar uma segunda máquina de litografia para trabalhar com High-NA EUV para um determinado cliente, e se compararmos esta afirmação com as confissões do chefe da Intel, podemos entender que estamos falando desta empresa. A Intel terá tempo para receber dinheiro pelo primeiro scanner litográfico desta classe antes do final deste ano, e o pagamento do segundo poderá cair já no próximo ano. Cada uma dessas máquinas litográficas custa cerca de 350 milhões de euros.

A ASML já possui pedidos de mais de uma dúzia desses sistemas, com clientes como Intel, TSMC, Samsung, SK hynix e Micron. Ao mesmo tempo, a TSMC afirma que não precisará de tais scanners para produzir chips com tecnologia A16, mas ainda não recusa experimentos com tais equipamentos. Os fabricantes de memória listados acima esperam começar a usar litografias EUV de alta abertura numérica de 2025 a 2026.