Apesar da compra activa de equipamentos estrangeiros que ainda não foram sancionados pelos fabricantes chineses de chips e de alguns progressos em termos da sua substituição de importações, a indústria local de semicondutores ainda não pode orgulhar-se de ter uma base de produção adequada para progressos subsequentes. Todos os equipamentos avançados de fabricação chinesa estão concentrados em laboratórios científicos, e não em empresas industriais.
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O vice-presidente da Associação de Fabricantes de Equipamentos Eletrônicos da China falou sobre isso, como explica o South China Morning Post, em um evento do setor em agosto. Li Jinxiang deixou claro que a indústria chinesa de semicondutores ainda tem um longo caminho a percorrer antes de poder reduzir a sua dependência de equipamentos importados. Nenhuma das linhas de produção na China, como referiu, está equipada com sistema litográfico de produção nacional, uma vez que a maioria delas tem o estatuto de protótipos e são utilizadas para investigação científica.
Talvez esta seja precisamente a base para as conclusões das autoridades americanas que, após o lançamento do smartphone Huawei Mate 60 Pro baseado no processador chinês HiSilicon Kirin 9000s de 7 nm lançado sob sanções, lançaram a sua própria investigação. De acordo com a secretária de Comércio dos EUA, Gina Raimondo, esta investigação determinou que a China não tem capacidade para produzir chips de 7 nm em grande escala, com base nas provas disponíveis aos EUA.
É claro que a China vem tentando desenvolver seus próprios sistemas avançados de litografia há muitos anos, mas os melhores modelos de equipamentos totalmente chineses desse tipo, produzidos pela empresa SMEE de Xangai, agora só são capazes de trabalhar com 90 nm. padrões de litografia. A este respeito, tal scanner é uma ordem de grandeza inferior às capacidades dos modelos japoneses e holandeses. No entanto, os especialistas chineses argumentam que seria injusto atribuir toda a culpa pelo atraso à mesma empresa, a SMEE. Um sistema de litografia consiste em muitos componentes fornecidos por terceiros, e os fornecedores da SMEE também estão significativamente atrás dos concorrentes ocidentais. A própria empresa só começará a fornecer sistemas de litografia capazes de trabalhar com tecnologia de 28 nm até o final do ano.
Analistas do Albright Stonebridge Group prevêem que levará pelo menos quatro ou cinco anos até que um sistema de litografia de classe EUV produzido em massa seja introduzido na China através dos esforços de desenvolvedores de equipamentos locais que dependem exclusivamente de fornecedores locais de componentes. O líder no fornecimento de tais scanners litográficos para o mercado mundial é a ASML da Holanda, mas as autoridades deste país proibiram-na de fornecer tais equipamentos a clientes chineses em 2019, e agora novas sanções estão se preparando para expandir a lista de proibições em equipamentos mais maduros.