China Grupo de tecnologia eletrônica relatou na produção bem sucedida do dispositivo para implante de íons, totalmente feito usando tecnologias domésticas. Este foi outro avanço no caminho para a produção independente de equipamentos industriais para a emissão de fichas e mitigando o impacto das sanções.
Fonte da imagem: China Electronics Technology Group
Dispositivos para implantação de íons na indústria de semicondutores são usados tanto para a criação de filmes quanto para dopagem (introdução de impurezas) nas camadas de trabalho de futuros microcircuitos. As profundidades de penetração variam dependendo da potência do feixe de íons. Com uma potência máxima de feixe de 6 milhões de elétron-volts, a instalação da China Electronics Technology foi projetada para exposição de média a profunda.
O uso da nova instalação permite que os fabricantes de chips chineses produzam semicondutores de até 28 nm. Para organizar a produção dos produtos segundo processos técnicos mais delicados, a China continua dependente de fabricantes de equipamentos estrangeiros, em particular alemães, se falarmos do nicho de implantação iônica.
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