A empresa japonesa Fujifilm se comprometeu a aumentar significativamente seu investimento na produção de materiais para a produção de microcircuitos. O montante do financiamento para a expansão e desenvolvimento das capacidades da empresa nos próximos três anos foi aumentado em 40% – até 70 bilhões de ienes ($ 637 milhões). Uma atenção particular é dirigida à produção de fotoresiste para scanners EUV com padrões tecnológicos inferiores a 5 nm e à expansão da produção de materiais nos Estados Unidos.
Fonte da imagem: Reuters
A Fujifilm fabrica seis tipos de materiais usados na fabricação de microcircuitos, incluindo fotoresiste e soluções para polimento químico-mecânico de pastilhas de silício. Os materiais são produzidos em 11 fábricas da empresa no Japão, EUA, Europa, Coréia do Sul e China. Parte significativa da próxima parcela de investimentos – até abril de 2024 – será direcionada à expansão da produção, principalmente nos Estados Unidos.
O mercado global de fotoresiste para scanners EUV está projetado para crescer cerca de 90% a $ 51 milhões em 2021 e continuará a crescer mais de 50% ao ano até 2025 (dados de analistas da Techcet). Espera-se que nos próximos três anos, scanners EUV para o lançamento de processadores 7nm comecem a ser ativamente usados pela Intel. Fotoresiste para processos técnicos com normas de até 7 nm já foi testado na TSMC e Samsung. Também é adequado para chips de 5 nm, embora a taxa de defeito possa ser maior. A Fujifilm está expandindo sua capacidade para atender a essa demanda. Em particular, a empresa planeja investir 4,5 bilhões de ienes em sua fábrica na província de Shizuoka para iniciar a produção de fotoresistentes EUV este ano.
O crescimento na demanda de semicondutores, impulsionado por uma escassez de chips pós-aparecimento e uma demanda crescente por IA e redes de comunicação de próxima geração, dá à Fujifilm a esperança de que o negócio de materiais de chip se torne um negócio chave para a empresa.
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