SK hynix implementa litografia EUV na produção em massa de chips RAM

Os fabricantes de memória gradualmente perceberam que a mudança para a litografia ultravioleta ultravioleta (EUV) pode ser comercialmente viável. SK hynix começa a produção em massa de chips LPDDR4 usando litografia EUV e tecnologia de 10nm de 4ª geração.

Fonte da imagem: SK Hynix

Estritamente falando, os fabricantes de RAM preferem falar sobre a tecnologia de processo da classe de 10 nm, então os parâmetros geométricos exatos às vezes são muito difíceis de determinar, mas no caso dos produtos SK hynix, os padrões “1a nm” eram precedidos por 1x, 1y e 1z. A empresa afirma que começou a implementação parcial da litografia EUV já no processo 1y, mas só em 1a atingiu a maturidade adequada para aumentar a produção em massa. Comparado com a tecnologia de processo 1z, o número de chips de memória do tipo DRAM de um wafer de silício foi aumentado em 25% precisamente devido à introdução da litografia EUV.

Os atuais chips LPDDR4-4266 de 8 Gigabit oferecem uma redução de 20% no consumo de energia. A partir do próximo ano, o processo 1a será usado para a produção de chips de memória DDR5, observa SK hynix em um comunicado à imprensa. Os fabricantes de smartphones começarão a receber chips LPDDR4 feitos com litografia EUV a partir do semestre atual.