A empresa holandesa ASML está considerando o lançamento de uma versão especial de scanners para litografia DUV semicondutora, projetada especificamente para entregas na China. Esses instrumentos artificialmente “degradados” cumprirão as últimas restrições dos EUA e podem ser enviados para o Reino do Meio sem uma licença especial de exportação.
Fonte da imagem: ASML
Se o projeto for adiante, SMIC, Hua Hong e outras empresas chinesas de semicondutores poderão continuar usando equipamentos da Holanda para produzir chips em processos de 28 nm e mais maduros. Ao mesmo tempo, o equipamento não permitirá a produção de chips mais modernos.
Em particular, estamos falando do sistema litográfico Twinscan NXT: 1980Di – hoje é o modelo menos eficiente da empresa na linha produzida pela ASML. No entanto, o sistema suporta óptica NA 1.35 e fornece resolução
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