O Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia Industrial Avançada (AIST) do Japão e a Intel estabelecerão um novo centro de pesquisa e desenvolvimento no Japão. O foco será o desenvolvimento de processos técnicos para chips avançados baseados em litografia EUV, escreve Nikkei, citando fontes bem informadas.
Fonte da imagem: Intel
O projeto, que custará centenas de milhões de dólares (US$ 273 milhões por unidade de litografia EUV), deverá durar de 3 a 5 anos. Este centro instalará equipamentos EUV avançados nos quais as empresas japonesas poderão depurar suas tecnologias. A criação do novo centro proporcionará às empresas japonesas a oportunidade, em colaboração com a AIST e a Intel, de desenvolver e implementar os mais recentes processos tecnológicos, o que aumentará a sua competitividade no mercado global.
As empresas japonesas têm agora de recorrer a centros de investigação estrangeiros, como o IMEC da Bélgica, para obter acesso a equipamentos EUV para desenvolver novos produtos. A criação de um centro de investigação no Japão permitirá às empresas locais reduzir a sua dependência de recursos estrangeiros, o que ajudará a acelerar o desenvolvimento de novos chips e a aumentar a competitividade da indústria nacional de semicondutores.
Por sua vez, Nikkei argumenta que o centro conjunto de pesquisa e desenvolvimento entre a Intel e a AIST é estrategicamente importante porque eliminará a necessidade de o Japão recorrer aos reguladores dos EUA para transferir dados de pesquisa e tecnologia dos Estados Unidos em meio ao aumento das restrições à exportação.