Ex-CEO da Intel, Gelsinger recorre a aceleradores de partículas para criar uma nova maneira de fabricar chips

O ex-CEO da Intel, Pat Gelsinger, tornou-se presidente da xLight, uma empresa que planeja usar o laser de elétrons livres (FEL) como fonte de luz para equipamentos de litografia EUV.

Fonte da imagem: xLight

A possibilidade de usar um acelerador de partículas para gerar radiação em máquinas de litografia vem sendo discutida há muito tempo, mas a xLight afirma que será capaz de criar tal fonte até 2028, mantendo a compatibilidade com os equipamentos existentes. Como parte da minha nova função na Playground Global, ingressei na xLight como Presidente Executivo do Conselho. “Trabalharei em estreita colaboração com Nicholas Kelez e sua equipe para construir os lasers de elétrons livres mais potentes do mundo usando tecnologia de acelerador de partículas”, escreveu Gelsinger em uma publicação no LinkedIn.

A litografia EUV é uma tecnologia avançada de fabricação de semicondutores que usa uma fonte de luz de comprimento de onda de 13,5 nm. Atualmente, apenas a ASML produz equipamentos de litografia EUV que usam um método sofisticado de geração de radiação neste comprimento de onda. Existem outros métodos para criar fontes de radiação de comprimento de onda extremamente curto para fabricação de chips, e um deles envolve o uso de um acelerador de partículas como fonte de plasma produzido a laser (LPP).

Gelsinger disse que o xLight usa a tecnologia LPP para criar uma fonte de luz que fornece quatro vezes mais potência do que qualquer coisa disponível atualmente. A máquina Twinscan NXE:3600D EUV da ASML usa uma fonte LPP de 250 W, enquanto a NXE:3800E usa cerca de 300 W. A ASML também demonstrou uma fonte de laser de mais de 500 watts no laboratório.

Enquanto a ASML continua trabalhando para aumentar a potência de suas fontes de luz, Gelsinger diz que a xLight já tem uma fonte LPP de mais de 1.000 watts que estará pronta para uso comercial até 2028. Ele afirma que a tecnologia xLight reduzirá o custo de um wafer de silício em cerca de 50%, bem como reduzirá as despesas de capital e operacionais por um fator de três, o que será um avanço significativo no aumento da eficiência de fabricação. A tecnologia xLight também tem o potencial de reduzir o custo de equipamentos de litografia baseados em FEL.

Note-se que o xLight não busca substituir as instalações EUV da ASML por seus próprios análogos. Em vez disso, a startup está trabalhando em uma fonte LPP que será compatível com hardware ASML.