A Intel finalmente lança uma produção de 10 nm em grande escala na nova Fab 42, que levou 9 anos para ser construída

A Intel anunciou que sua fábrica Fab 42, fundada em 2011, finalmente atingiu o nível planejado de produção de produtos semicondutores. A fábrica produz os produtos mais recentes da empresa com base em uma tecnologia de processo de 10 nm.

Fonte da imagem: Intel

A Intel agora pode produzir processadores de segunda geração de 10 nm – Ice Lake, Ice Lake-SP, Elkhart Lake, Snow Ridge, bem como chips de terceira geração de 10 nm (SuperFin) – GPUs Tiger Lake e DG1, não apenas em Israel e no estado Oregon, mas também no Arizona, na nova fábrica da Fab 42. O lançamento de uma terceira fábrica capaz de produzir produtos de 10nm em grandes volumes permitirá à empresa aumentar significativamente a oferta dessas soluções.

A Intel normalmente não divulga as capacidades de suas fábricas, mas neste caso foi dito que a Fab 42 fará parte da nova rede corporativa da empresa. Normalmente, fábricas desse tamanho são capazes de produzir 25.000 a 100.000 wafers de silício por mês. No entanto, o volume final depende de um ou outro processo de produção selecionado.

Segundo a Intel, já investiu mais de 3 bilhões na inauguração da fábrica no Arizona e atualmente emprega 12 mil pessoas. A planta tem uma história bastante interessante. O maior fabricante de processadores desistiu em 2011. Naquela época, as perspectivas de produção de wafers de silício usando litografia de radiação ultravioleta ultravioleta (EUV) eram incertas, então a empresa esperava usar a planta para produzir grandes wafers de 450 mm. Pensando nisso, a planta foi equipada.

A construção da fábrica e seu equipamento inicial com exaustores e sistemas de ar condicionado foi concluída em 2013. Porém, no início de 2014, a Intel decidiu não equipar a fábrica com o equipamento para a produção dos então avançados produtos semicondutores de 14 nm, por não ter certeza sobre o nível de demanda por eles.

No início de 2017, a empresa anunciou seu desejo de investir bilhões para equipar a fábrica da Fab 42 com equipamentos para a produção de chips de 7 nm. Com o tempo, a Intel percebeu que não tinha capacidade suficiente para produzir produtos de 10nm, então a fábrica foi reequipada para esse processo de produção. Ao mesmo tempo, a empresa manteve a capacidade de usar o Fab 42 como uma linha para a produção de produtos com base em uma tecnologia de processo de 7 nm, que envolve o uso de litografia em ultravioleta profundo (DUV) e radiação ultravioleta ultravioleta (EUV).