A Intel apresenta o substrato de vidro EMIB para futuros chips complexos.

Na NEPCON Japan 2026, a Intel apresentou uma nova tecnologia de substrato de vidro que auxiliará na produção de chips para aceleradores de inteligência artificial e computação de alto desempenho.

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Um substrato de 78 x 77 mm é grande o suficiente para acomodar todo o encapsulamento do chip, com capacidade para aproximadamente o dobro do tamanho da máscara de silício — cerca de 1716 mm² para lógica e memória. Este é o primeiro substrato de vidro em uma configuração 10-2-10 que suporta a tecnologia de módulo multichip EMIB da Intel. Dez camadas interpositoras RDL são colocadas na parte superior para redistribuir os sinais do chip.

A base do substrato consiste em duas camadas e é feita de material de 800 µm (0,8 mm), que pode incluir camadas metálicas internas para circuitos de interconexão através do vidro (TGV), placas de alimentação ou planos de aterramento. O “10” final indica o número de camadas na parte inferior — uma imagem espelhada das camadas superiores para conexões da placa. Esta camada também serve para organizar os numerosos fios no chip.

Outra vantagem do substrato Intel 10-2-10 é seu espaçamento entre pads de apenas 45 µm. Por fim, duas pontes EMIB são integradas para encapsulamento modular multichip, permitindo que vários chips pequenos sejam montados no substrato e conectados via EMIB. A Intel também encontrou uma solução para evitar o problema SeWaRe — rachaduras no vidro durante a fabricação.

Substratos de vidro são mais difíceis de fabricar do que os orgânicos, portanto, relativamente poucas empresas estão desenvolvendo essa tecnologia. No entanto, seus pontos fortes incluem estabilidade térmica, prevenção de deformações e melhor isolamento elétrico — atrasos e interferências de sinal em áreas densamente conectadas são reduzidos, assim como a densidade de conexões.As interconexões aumentam.