A ASML prometeu os primeiros chips produzidos em massa com tecnologia EUV de alta NA ainda este ano.

Até o momento, a Intel tem sido considerada a principal cliente dos sistemas de litografia EUV de alta abertura numérica (High-NA) ultra-caros da ASML, mas estes têm despertado o interesse da empresa para experimentos preparatórios para a transição para a tecnologia 14A. A própria ASML afirmou que os primeiros produtos fabricados com esses equipamentos serão lançados nos próximos meses.

Fonte da imagem: ASML

Vale lembrar que a Intel começou a adquirir sistemas TwinScan EXE:5000 da ASML, utilizados para prototipagem, em meados de 2023. Posteriormente, reservou todo o fornecimento de scanners ASML dessa classe para 2024 e, até o final de 2025, instalou o primeiro sistema TwinScan EXE:5200, teoricamente adequado para produção em larga escala. Esse equipamento permite uma redução ainda maior nos parâmetros geométricos dos componentes semicondutores, aumentando a densidade de transistores no chip e, consequentemente, o desempenho. O novo scanner é capaz de processar até 220 wafers de silício por hora. É importante ressaltar que a Intel provavelmente não utilizará a tecnologia EUV de alta NA para processar múltiplas camadas de chips simultaneamente na produção em larga escala, mas a introduzirá gradualmente, apenas nas etapas necessárias.

A TSMC está adotando uma abordagem cautelosa em relação aos equipamentos EUV de alta NA, considerando-os muito caros para uso em produção em massa. A Samsung Electronics está tentando acompanhar a Intel e está adquirindo gradualmente scanners ASML semelhantes, assim como sua concorrente SK hynix. Esses scanners litográficos podem ser usados ​​tanto na produção de componentes lógicos quanto na fabricação de chips de memória.

O CEO da ASML, Christophe Fouquet, insinuou isso em um evento do setor organizado pela Imec, da Bélgica: “Nos próximos meses, esperamos ver os primeiros produtos — tanto lógicos quanto de memória — processados ​​em sistemas de alta NA (números aleatórios).” Um sistema litográfico ASML desse tipo custa aos clientes quase US$ 400 milhões.Embora o equipamento em si seja caro para adquirir, ele reduz a necessidade de ferramentas usadas para expor fotomáscaras e também acelera o processo de fabricação de chips.